这年头的晶圆厂投入，是越来越昂贵了……因为现金设备成本越来越贵。
如先进光刻机这些东西，需求量小，产量低，意味着研发成本很难摊薄，同时制造成本也难以通过产量来拉低……最后搞的比战斗机这种军品溢价还要高。
海湾科技的duv浸润式光刻机，预计一年产量才六十几台……比战斗机的产量都低！
就这么点产量，它就便宜不到哪里去。
其他的核心设备也大多存在类似的情况，产量低，成本无法摊薄，售价极其昂贵。
沪城基地第二十六号厂里，预计采用的上千万美元的设备除了光刻机，还有一大堆呢。
光刻机成本也只占据了晶圆厂成本的百分之二十五左右，还有百分之五十成本是其他设备构成的。
至于非设备成本，也就是厂房以及其他乱七八糟的成本全部加起来，只有百分之二十五……这个百分之二十五的比例是比较低的，台积电搞一家同级别的晶圆厂，非设备成本这些得占据百分之三十左右。
当然，一家晶圆厂里，成本最贵的还是光刻机，光这一种设备就占据百分之二十五的建厂成本。
王道林对自家的duv浸润式光刻机也是相当自豪的：“我们的duv浸润式光刻机，目前已经为国内六家客户供货，智云微电子已经接收了三十台这种光刻机，并成功应用于产线上。”
“我们的hduv-500型光刻机，在套刻精度上，三点五纳米已经满足10-22纳米节点的双重曝光工艺需求，同时我们的双工台技术也有比较大的进步，进一步推高了生产效率！”
“而我们的hduv-600型号光刻机，目前也已经完成了样机制造，我们正在进行后期的各种测试环节，量产型号有望在明年第四季度出货，以供应智云微电子使用。”
“这款hduv-600型光刻机，套刻精度达到两点五纳米，完全可以用来进行四重曝光，满足智云微电子提出的等效七纳米工艺的生产需求！”
“目前我们在duv光刻机领域的技术研发，主要也是集中在这款光刻机上！”
“除了眼前这些光刻机外，旁边的是我们的蚀刻机，离子注入机等核心设备，也都是我们研发人员联合国内众多厂家，科研所合作研发的成果，每一款设备，都是国内顶级工业技术的完美体现！”
说实话，这些设备如何完美体现国内的顶级工业技术，徐申学不知道……
徐申学对工业基础技术，其实了解的也不多，他前后两辈子都是文科出身，这辈子虽然从事高科技行业，日常也会接触一些高技术的东西，同时他自己现在还给自己挂着以个a级的科研名额涨脑子，有空，有需求的时候他也会了解，学习一些技术资料。
但是这种了解和学习依旧是极为有限的。
主要是海湾科技这边的东西过于先进，并且涉及到的领域方方面面，徐申学说真的，想要弄明白这些东西有点吃力。
但是徐申学也不需要弄明白详细的技术原理这些，他只需要知道这些设备可以用来生产先进的芯片就行了。
至于有什么技术很重要，需要重点关注之类的，王道林也会重点给他说一说！
这一圈看下来，至少看了十多种设备，无一例外都是半导体制造业里的核心设备。
其中的不少技术已经非常不错，比如后道光刻机技术就非常好，甚至都有些超前发展了……王道林说他们的hs350型后道光刻机，甚至都已经可以用来满足等效七纳米工艺的生产需求了，甚至都达到了国际领先水平，超过了竞争对手。
不仅仅自己使用，还提供给大量国外客户使用，四星甚至都有采购……而且这种先进后道光刻机，海湾科技卖的很贵的，价格比国外同类型竞品还高。
然后蚀刻机做的也比较好，基本上能够满足10-22纳米工艺的需求，其中的先进型号已经能够满足10工艺，也算是超前发展了，同样也供应国内外客户。
其他的多种核心设备，基本也能满足十四纳米工艺或二十八纳米工艺的需求。
”我们的目标，是争取在后年，把这十多种核心设备的技术指标，全部提升到满足等效10纳米工艺的程度。”
”然后在这个基础上，继续向7纳米工艺乃至未来的5纳米工艺所需要的技术指标推进！”
“对此，我们的信心还是很大的！”
徐申学心中则是暗道：“二十个s级科研名额，百十多个a级科研名额都投在了仙女山控股体系下，如果你们还没信心，我就要怀疑你们是不是有真材实料了。”
仙女山控股体系下的各企业，一向来是徐申学的科研名额的投入大户，每个月新增加的成就点所购买的s级以及a级别的科研名额，基本都是给仙女山控股体系这边用了。
智云集团那边除了智云微电子外，其他项目组，子公司都已经好久没有得到过a级以上的科研名额新增了，都是用原来的一些科研名额顶着，不过原来分配过去的高级别科研名额也不少，所以也够用了。
看完了诸多这些现成的核心设备，徐申学又了解了一番euv光刻机的研发进度。
王道林介绍道：“目前我们正在汇同各大子系统供应链企业，对euv的多种关键技术进行集中攻关！”
“主要是euv光源系统，高精度的弧形离轴反射镜构成的光学系统，还有超高精度的真空双工件台。”
“除了光刻机本身的技术外，我们也在配合仙女山控股体系下的其他兄弟公司，研发euv掩膜版，沉积工艺等等。”
“而我们负责主导的euv光刻机研发上，目前光源系统的进度是比较快速的，我们之前获取了完整了euv所使用极紫外光光源的技术资料，而经过我们数年的反复尝试和试验，已经算是制造出来了极紫外光的光源！”
“但是距离实用性还有一定的差距，我们的激光部分问题不大，但是在激光轰击锡滴的频率还是不够，无法达到技术资料上所需要的每秒五万次。”
“我们已经针对这个技术难题牵头，进行了技术攻关，目前进展还算顺利，也许明年年中我们应该就能够把这个光源给搞出来！”
“还有则是光源的反射镜，因为极紫外光的特殊性，很多材料无法反射这种光线，而是会被吸收，因此我们还需要一种全新材料所制造的反射镜来反射这种极紫外光！”
“这部分工作主要由南方光学所承担，据我所知，他们已经尝试研发出来一种镜面材料，效果很不错，如今的难题是卡在了及镜面加工上，euv光刻机所需要的镜面精度，超过了duv光刻机镜面精度一个量级，他们正在和国内的几家科研所进行合作，准备搞这个镜面加工。”
“双工台的话，这个难度倒是稍微低一些，我们如今的双工台技术还是很不错的，哪怕直接套用也勉强可行，只是会浪费euv的13.5纳米的光源所带来的精度而已。”
“我们也正在开发精度更高，效率更高的双工台，为euv光刻机进行配套！”