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第52章 新的研究项目(3 / 3)

唐琪让程潇穿上白色的实验服,随后带着他进入了实验车间。

“对芯片这块儿的话你可能不太了解,目前我们龙国采用的是DUV技术,制作工艺达到了14纳米,达到了世界的中等水平。”

程潇点了点头,脑子里开始回想起光刻机技术的具体细节。

他花了两天的时间将所有资料整理出来,可以说闭着眼睛都能知道怎么研制最尖端的光刻机。

不过对于这个平行世界的芯片技术,他还不是特别了解。

于是程潇又问到:“那目前世界顶级水平大概是什么样子?”

唐琪和其他几个助理一听这话,便知道程潇是个彻底的门外汉。

但他们还是耐心的解释:“目前世界最顶级的工艺是漂亮国和兰国,他们能做出7纳米的工艺,但一直进行着技术垄断。”

“是啊,咱们龙国每年都要花费巨额资金购入这些高精芯片,要不然制造出来的设备根本没人买。”

众人说到这里都叹了口气。

而程潇听完后,也是基本了解的情况。

与此同时,他也想知道这几个助理对芯片的了解到底有多少,好开展接下来的科研工作。

“唐琪学姐,各位学长,你们接下来打算从什么方向入手?”

众人见程潇提问,便说道:“虽然现在告诉你,你可能有些细节听不懂,但还是跟你说一下咱们的基本思路吧。”

说完后,唐琪便指着一旁的简易光刻机说道:“光刻机是制造芯片的必备设备,这是我们制造的简易14纳米光刻机,它可以刻画集成电路板,但制造的芯片不能使用。”

田帅接着说道:“现在咱们光刻机还不够精细,根本原因在于光的尺寸太大了,最小也只能缩小到14纳米。”

霍成龙也点头道:“我们打算研制更精细的镜面,对光进行切割和反射,达到缩小光的目的。”

程潇听完后摸了摸下巴问道:“研究结果怎么样?”

“不理想。”

陈泽摇了摇头,叹息一声说道:“可能是因为我们实验室的设备不够精细,打造出来的镜面总是达不到要求。”

“我们的镜面两波峰或两波谷之间的距离达到700~800pm rms,虽然达到了光刻机的镜面标准,但是最多只能将制程工艺从14纳米提高13.5纳米。”

程潇缓缓点头,眉头紧锁,仿佛知道了问题的所在。

几秒后,他才开口道:“学姐学长,我想问你们一个问题。”

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