光刻机是芯片制造当中做核心的部分，华国在芯片制造上面被卡脖子最严重的点就在这个上面。
没有最先进的光刻机，芯片制造就只能靠工艺制程去弥补去硬件的不足。
可这种弥补不能够解决根本问题，说白了就属于治标不治本。
想要摆脱这种尴尬情况，还是得要自己有最先进的光刻机才行。
之前的时候，陈怀庆对国内光刻机的情况，真的不怎么了解。
就只是知道申城微电子是国内最先进的光刻机研发和制造单位。
申城微电子公司研发出来了后道90纳米光刻机，只不过因为大量采用国外的零部件，直接被国外零部件厂商断供了。
申城微电子公司研发出来的光刻机直接就没有办法实现量产。
不能够实现产品量产，也就意味着前期投入的研发费用收不回来。
申城微电子公司只能够转而去研究前道光刻机。
前道光刻机主要应用于半导体屏幕的。
是的，屏幕也是由光刻机来生产的。
可现在却有人告诉陈怀庆，华国的光刻机并不差。
陈怀庆抬头看向赵建胜：“各位领导，你们确定给我看的资料，没有掺假？”
1980年自动对准分布投影光刻机研制成功，加工最细线宽为0.8微米。
此时在国内，光刻机研发团队还真的不少，不像是最后，就剩下申城微电子一个独苗。
109厂是高技术半导体器件和集成电路研制生产中试厂。
赵建胜嗤笑一声：“怎么，很惊讶？”
陈怀庆：“不仅仅是惊讶，还很难以置信。本来，我以为我们的光刻机技术很落后，可却没有想到，国家已经发展到了这个程度。”
此时国内的光刻机技术和世界最先进水平相比，差距绝对不会太大，可能也就在五年内。
不像是到了21世纪之后，这个差距被拉大到了四代。